Agent de réticulation phénylglycolurile CAS 721969-01-3 – Fournisseur ultra haute pureté pour lithographie ArF/KrF

Spécification de l’imidazo[4,5-d]imidazole-2,5(1H,3H)-dione, tétrahydro-1,3,4,6-tétrakis(méthoxyméthyl)-3a-méthyl-6a-phényl-

Spécification 1 : Pureté ≥ 99,5 %, impuretés métalliques totales ≤ 500 ppb

Spécification 2 : Pureté ≥ 99,9 %, impureté métallique individuelle ≤ 10 ppb

Name	Imidazo[4,5-d]imidazole-2,5(1H,3H)-dione, tétrahydro-1,3,4,6-tétrakis(méthoxyméthyl)-3a-méthyl-6a-phényl-
Numéro CAS	721969-01-3
Formule moléculaire	C₁₉H₂₈N₄O₆
Formule structurale
Applications	Appliqué dans les matériaux semi-conducteurs, les photorésines et les domaines des photorésines ArF et KrF.
Pureté	Grade 1 : ≥ 99 %
Grade 2 : ≥ 99 %, impuretés métalliques totales ≤ 50 ppb
Spécification d’emballage	kg/sac, 25 kg/fût

Applications deImidazo[4,5-d]imidazole-2,5(1H,3H)-dione, tétrahydro-1,3,4,6-tétrakis(méthoxyméthyl)-3a-méthyl-6a-phényl-

Dans les semi-conducteurs et les photorésines, il est spécialement utilisé comme agent de réticulation d’ultra-haute pureté dans les formulations de photorésines ArF et KrF pour la fabrication de puces aux nœuds avancés.

FAQ

Q1 : Quelles qualités ultra-pures sont proposées pour les photorésines ArF/KrF ?

R : Deux spécifications : ≥ 99,5 % (impuretés totales ≤ 500 ppb) et ≥ 99,9 % (métal individuel ≤ 10 ppb).

Q2 : Quels instruments analytiques analysent les métaux à l’état de traces ?

R : Un ICP-MS à haute sensibilité est utilisé pour l’analyse des métaux à l’état de traces sur l’ensemble des éléments.

Q3 : Comment demander des échantillons dans le cadre d’un accord de confidentialité (NDA) ?

R : Dès la signature d’un accord de confidentialité, les échantillons de photorésine ultra-pure sont expédiés sous 5 jours ouvrés.